제품소개

습식 스크라바 집진기

Klaus Wet Scrubber KWC Series

습식 스크라바 집진기

  • CO₂ 용접 / 아크(ARC) 용접 / 용단(Gouging) 작업 / 특수용접 등 흄이 발생하는 공정, 레이저 가공, 금속 절단 가공, 플라즈마 가공 등에서 발생한느 흄(Fume) 제거
사용용도 Purpose of use
  • 도금 및 표면처리 공정 등의 흄 발생사업장, 반도체의 세정공정, 산 · 알카리 가스 발생 공정, 미세한 입자상 부유물질 발생 공정, 화학공장 등 유해가스 및 악취발생 공정
제품특징 Features
  • 분진, 유해가스 및 악취 등을 동시에 제거 할 수 있다.
  • 가연성, 폭발성 분진을 처리할 수 있다.
  • 포집된 분진의 재 비산의 우려가 없다.
  • 가스 유량의 변동에 대해 안전된 흡수 효율을 발휘한다.
  • 고농도의 유독가스 처리가능하다.
  • 고온가스를 처리 할 수 있다.
  • 유출수가 수질오염문제를 야기할 수 있다.
오염물질에 대한 흡수액의 선택
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구분 오염물질 흡착제 반응식 업종
염기성 암모니아
[NH₄]
H₂SO₄ HCl NaOCl 2NH₃ + H₂SO₄ → (NH4)₂SO₄
NH₃ + HCl →NH4Cl
2NH₃ +3NaOCl → N₂ + 3NaCl + 3HO
축산, 쓰레기처리장, 양계장, 분뇨처리장 등
트리메틸아민 [(CH3)3N] H₂SO₄ HCl NaOCl (CH₃)₃N + H₂SO₄ → (CH₃)₃N.H₂SO₄
(CH₃)₃N + HCl → (CH₃)₃N.HCl
(CH₃)₃N + NaOCl → (CH₃)₃NO.NaC
축산농업, 전분제조업, 하수처리장 등
산성 황화수소 [H2S] NaOH NaOCl H₂S +NaOH → Na₂SO₄ + H₂O
Na₂S + H₂O → 2NaSH
H₂S + 2NaOH → Na₂S + 2H₂O
Na₂S + 4NaOCl → Na₂SO₄ + 4NaCl
Na₂S + NaOCl + H₂O → S + NaCl + H₂↑
전분제조업, 화제장, 가죽처리장, 쓰레기처리장, 분뇨처리장 등
메틸메르캅탄 [CH3SH] NaOH NaOCl CH₃SH + NaOH → CH₃SNa + H₂O
2CH₃SH + 6NaOCl → 2CH₃SO₃ + 6NaCl +H2↑
펄프공장, 하수처리장 등
중성 황화메틸 [(CH₃)₂S] NaOCl (CH₃)₂S + 3NaOCl → (CH3)₂SO₃ + 3NaCl 분뇨처리장, 쓰레기처리장 등
이황화디메틸 [(CH₃)₂S₂] NaOCl (CH₃)₂S₂ + 2NaOCl → (CH₃)₂SO₂ + 2NaCl 분뇨처리장, 쓰레기처리장 등
아세트알데히드 [(CH₃)CHO] NaOCl (CH₃)CHO + NaOCl + NaOH → (CH₃)COONa + NaCl + H₂O 아세트알데히드제조공장, 복합비료제조공장 등.
스틸렌 [C₆H₅] NaOCl C₆H₅CHCH₂ + HClO → C₆H₅CHOHCH₂Cl FRP 제품제조공장, 스틸렌제조공장 등
충전물의 종류
  • Tellerette : 대표적인 선구조 충전물로 운전 시 사면을 형성하지 않아 큰 유효 비표면적을 갖기 때문에 주로 가스 흡수용충전물로 사용됨. 또한, 초기 액분배 특성을 하부까지 유지하여 편류가 쉽게 발생하지 않는 장점이 있어 충진고가 높게 설계되더라도 대부분의 경우, 액재분배의 설치를 생략할 수 있음
설계 조건 Design Condition
항목 범위
공탑속도 (m/sec) 1.2 ~ 2.2
압력손실 (mmAq) 50 ~ 200
액가스비 (L/m2) 1 ~ 3
충진고 (mm) 500, 3단
충전물 크기 탑 지름의 1/8 이하
설계 시 유의사항 Caution
  • 공동현상(Channeling)이 발생될 수 없게 충분히 분무액을 골고루 분사해야 한다.
  • 운전점은 익류점(Flooding Point)의 40 % ~ 80 % 정도가 되도록 설계한다.
  • 탑이 지름과 높이의 상관성은 2.5 이상이 되어야 공동현상이 일어나지 않는다.
제품사양 Technical Specifications
  • 상담 후 사업장 방문하여 설계 시공